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Sigma-Aldrich

CVD graphene on silicon wafer, R2R Monolayer largegrain

6 in diameter, avg. no. of layers, 1

Synonym(e):

Roll-to-Roll graphene

Anmeldenzur Ansicht organisationsspezifischer und vertraglich vereinbarter Preise
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About This Item

Empirische Formel (Hill-System):
C
CAS-Nummer:
1034343-98-0
Molekulargewicht:
12.01
UNSPSC-Code:
12141908
NACRES:
NA.23

product name

R2R Monolayer large grain CVD graphene on silicon wafer, 6 in diameter, avg. no. of layers, 1

Qualitätsniveau

100

Beschreibung

Growth method: roll-to-roll CVD
Wafer: SiO2 (300nm) Si
Number of layer: Monolayer
Raman intensity 2D/G: ≥1.5

Leistungsmerkmale

avg. no. of layers 1

Schichtwiderstand

280 Ω/sq ±10%

Größe

110 μm × 110 μm ± 10%, grain size

Oberflächendeckung

surface coverage >98%

Durchlässigkeit

>97%

Halbleitereigenschaften

(mobility>3000 cm2/V·s) (Hall effect measurements)

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Verwandte Kategorien

Allgemeine Beschreibung

Roll-to-roll, high-quality, monolayer CVD graphene with large grain size (~110μm^2) on 6 inch silicon wafer.

Anwendung

Our Roll-to-Roll CVD graphene products are true monolayer high quality graphene, fabricated inside a Cleanroom, heavily monitored and QC to assure high reproducibility.
The roll-to-roll process allows continuous, large scale graphene production.

This large grain size graphene product on silicon wafer is ready to use, helps you minimize process time, and increase success rate. This product with low sheet resistance would enable unmatched reproducibility and allow high performance for CVD graphene based FET, CVD graphene based sensors, and heterostructure based micro/nano electronics.

Application examples:
  • Ultrafast Transistor
  • Optical devices
  • Bio/Gas Sensor
  • Transparent Electrode
  • Flexible Display
  • Smart Coating
  • Thermal management

Vorsicht

Be cautious not to drop
Keep away from contamination, heat, dust and flame etc.

Lagerung und Haltbarkeit

Avoid direct sun light, avoid high temperature, avoid high humidity, and avoid dust.

Rechtliche Hinweise

Product of LG Electronics, R&D use only

WGK

WGK 3

Analysenzertifikate (COA)

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Integrating graphene into semiconductor fabrication lines.
Daniel Neumaier et al.
Nature materials, 18(6), 525-529 (2019-05-23)
Bing Deng et al.
Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.), 31(9), e1800996-e1800996 (2018-10-03)
Chemical vapor deposition (CVD) is considered to be an efficient method for fabricating large-area and high-quality graphene films due to its excellent controllability and scalability. Great efforts have been made to control the growth of graphene to achieve large domain

Unser Team von Wissenschaftlern verfügt über Erfahrung in allen Forschungsbereichen einschließlich Life Science, Materialwissenschaften, chemischer Synthese, Chromatographie, Analytik und vielen mehr..

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