Direkt zum Inhalt
Merck
Alle Fotos(2)

Dokumente

496863

Sigma-Aldrich

Pentakis(dimethylamino)tantal(V)

99.99%

Synonym(e):

PDMAT, TADMA, Ta(NMe2)5, Tantalum dimethylamide

Anmeldenzur Ansicht organisationsspezifischer und vertraglich vereinbarter Preise
Alle Fotos(2)

About This Item

Lineare Formel:
Ta(N(CH3)2)5
CAS-Nummer:
19824-59-0
Molekulargewicht:
401.33
MDL-Nummer:
MFCD01631286
UNSPSC-Code:
12352300
PubChem Substanz-ID:
24873088
NACRES:
NA.23

Qualitätsniveau

100

Assay

99.99%

Form

solid

Eignung der Reaktion

core: tantalum
reagent type: catalyst

mp (Schmelzpunkt)

100 °C (dec.) (lit.)

SMILES String

CN(C)[Ta](N(C)C)(N(C)C)(N(C)C)N(C)C

InChI

1S/5C2H6N.Ta/c5*1-3-2;/h5*1-2H3;/q5*-1;+5

InChIKey

VSLPMIMVDUOYFW-UHFFFAOYSA-N

Verwandte Kategorien

Allgemeine Beschreibung

Atomic number of base material: 73 Tantalum

Leistungsmerkmale und Vorteile

Volatile solid CVD precursor to tantalum nitride (TaN) thin films. Also yields tantalum oxide (Ta2O5) thin films when O2, H2O, NO or H2O2 is present during the deposition process. Ta2O5 thins films show promise as gate dielectric materials in the manufacture of integrated circuits.

Piktogramme

FlameCorrosion
GHS02,GHS05

Signalwort

Danger

Gefahreneinstufungen

Eye Dam. 1 - Flam. Sol. 1 - Skin Corr. 1B - Water-react 1

Lagerklassenschlüssel

4.3 - Hazardous materials, which set free flammable gases upon contact with water

WGK

WGK 3

Flammpunkt (°F)

Not applicable

Flammpunkt (°C)

Not applicable

Persönliche Schutzausrüstung

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges

Analysenzertifikate (COA)

Suchen Sie nach Analysenzertifikate (COA), indem Sie die Lot-/Chargennummer des Produkts eingeben. Lot- und Chargennummern sind auf dem Produktetikett hinter den Wörtern ‘Lot’ oder ‘Batch’ (Lot oder Charge) zu finden.

Besitzen Sie dieses Produkt bereits?

In der Dokumentenbibliothek finden Sie die Dokumentation zu den Produkten, die Sie kürzlich erworben haben.

Die Dokumentenbibliothek aufrufen

Kunden haben sich ebenfalls angesehen

Slide 1 of 6

1 of 6

Tetrakis(dimethylamido)zirconium(IV) electronic grade, ≥99.99% trace metals basis

Sigma-Aldrich

579211

Tetrakis(dimethylamido)zirconium(IV)

Tetrakis(ethylmethylamid)hafnium(IV) ≥99.99% trace metals basis

Sigma-Aldrich

553123

Tetrakis(ethylmethylamid)hafnium(IV)

Tris(diethylamido)(tert-butylimido)niobium(V) packaged for use in deposition systems

Sigma-Aldrich

751774

Tris(diethylamido)(tert-butylimido)niobium(V)

Tris(dimethylamino)silan electronic grade, 99.999%

Sigma-Aldrich

570133

Tris(dimethylamino)silan

Tantal(V)-fluorid 98%

Sigma-Aldrich

317004

Tantal(V)-fluorid

Tantal(V)-chlorid 99.8% trace metals basis

Sigma-Aldrich

218634

Tantal(V)-chlorid

James E Maslar et al.
Applied spectroscopy, 74(10), 1219-1229 (2019-10-17)
A nondispersive infrared gas analyzer was demonstrated for investigating metal alkylamide precursor delivery for microelectronics vapor deposition processes. The nondispersive infrared analyzer was designed to simultaneously measure the partial pressure of pentakis(dimethylamido) tantalum, a metal precursor employed in high volume

Artikel

FePt Nanogranular films for high density heat-assisted magnetic recording

A hard disk drive (HDD) is a data storage device that stores digital information by magnetizing nanosized magnets on flat disks and retrieves data by sensing the resulting magnetic field.

High Purity Metalorganic Precursors for CPV Device Fabrication

High Purity Metalorganic Precursors for CPV Device Fabrication

Unser Team von Wissenschaftlern verfügt über Erfahrung in allen Forschungsbereichen einschließlich Life Science, Materialwissenschaften, chemischer Synthese, Chromatographie, Analytik und vielen mehr..

Setzen Sie sich mit dem technischen Dienst in Verbindung.